Eines von hochrangigen Materialien Siliziumnitrid

Eines von hochrangigen Materialien Siliziumnitrid

Siliziumnitrid ist eine Legierung, die durch Verarbeitung von Siliziummetall erhalten wird und einen extrem hohen Silizium- und Stickstoffgehalt aufweist.
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Beschreibung

Produktbeschreibung

 

PorösSiliziumnitridDie Keramik mit hoher Porosität und gleichmäßiger Porenstruktur wurde durch Sintermethode für kohlenstoffthermische Reduktionsreaktionen unter Verwendung von billigen Silica-, Carbon-Schwarz- und Siliziumpulver als Ausgangsmaterial hergestellt, und die Auswirkungen des Siliziumpulvergehalts in Rohstoffen auf die Mikrostruktur und die mechanischen Eigenschaften poröser Siliziumnitrid-Ceramiks wurden untersucht. Die XRD -Analyse zeigte, dass die Zusammensetzung des gesinterten Probens -SI3N4 -Phases mit Ausnahme einer geringen Menge an -SI3N4 -Phase und intergranulärer Phase Y2SI3O3N4 war. Die SEM -Analyse zeigte, dass die Mikrostruktur aus stabförmigen -si3n4 -Körnern und gleichmäßigen Poren bestand. Durch die Änderung des Gehalts von Siliziumrauch wurden poröse Siliziumnitridkeramik mit unterschiedlichen Porositäten und hervorragenden mechanischen Eigenschaften hergestellt.

 

Produktparameter

Grad N Si Ca min Ø Min C min Al min Fe min
Si3n 485-99 32-39 55-60 0.25 1.5 0.3 0.25 0.25

 

Produkte Kooperationsbild

Transporting silicon metal

1.Ein zweifrequenter Lasereingangshohlraumfreier normaler DispersionSiliziumnitridOptischer Wellenleiter, um optische Frequenzkamm und numerische Simulation zu erzeugen. The normal dispersion control and optimization of the silicon nitride optical waveguide is carried out, and the peak power of the phase-locked dual-frequency laser with an initial total power of 1W is increased to 30W through two-stage chirped pulse compression by using quartz-based high nonlinear fiber and ordinary single-mode optical fiber, and a 3m long normal dispersion silicon nitride nonlinear Optischer Wellenleiter wird eingegeben, und basierend auf dem kombinierten Effekt der normalen Dispersion, der Selbstphasenmodulation und der Lichtwellenaufteilung des optischen Frequenzkamms mit einer Bandbreite von etwa 100 nm im 1550 nm-Band mit einer Bandbreite von etwa 100 nm wird simuliert. Der Effekt der Impulsformung auf die Flachheit des optischen Frequenzkamms wird untersucht, und der flache optische Frequenzkamm mit einer Bandbreite von etwa 57 nm kann durch Gestalten der Pulse in Gaußsche Impulse realisiert werden. Der Einfluss des Leistungsverhältnisses und des Frequenzintervalls des phasenverriegelten Doppelfrequenzlasers auf den optischen Frequenzkamm wird untersucht.

 

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