Hochrangiger Produkt Siliziumkarbid

TMAH kann das Zeta -Potential von erheblich erhöhenSiliziumkarbidPulver und verringern die Viskosität der Aufschlämmung, wodurch die rheologischen Eigenschaften der Aufschlämmung signifikant optimiert werden. Bei pH um 1 0 stieg das Zeta -Potential um 11,7 mV bzw. 21 mV, nachdem 0. 3% und 0,6% TMAH hinzugefügt wurde. Übermäßiger Dispergiermittel erhöht die Ionenkonzentration in der Aufschlämmung und führt zu einer Abnahme der Dicke der elektrischen Doppelschicht, wodurch die Rheologie der Aufschlämmung verschlimmert wird.

1.Eine Methode zur Vorbereitung von Silizium-modifizierten dünnen Filmen auf reaktivem SinterSiliziumkarbid(RB-SIC) -Materialien mithilfe einer Hall-Ionen-Quelle zur Unterstützung der Elektronenstrahlverdampfung und der Polierenseffekt der modifizierten Filme bei unterschiedlichen Abscheidungsraten wurde untersucht. Oberflächenstreuungs- und Reflexionsmessungen wurden an den Proben durchgeführt. Die mikroskopischen Aufnahmen der Proben zeigen, dass die Struktur der Siliziumfilmschicht unter dem Zustand der zunehmenden Ablagerungsrate tendenziell locker ist. Nachdem das reaktive Sintern von Siliziumcarbidproben, die mit Silizium-modifizierten Filmen beschichtet sind, fein poliert haben, nimmt der Oberflächenstreukoeffizient auf 1,46%ab, und das Reflexionsvermögen liegt nahe an dem der gut Polierten Glasceramic. Der Temperaturschock -Test und der Oberflächenzugtest zeigen, dass der Siliziumfilm kein Riss und Abfall hat, in der Natur stabil ist und eine gute Kombination mit Siliziumkarbidsubstrat aufweist.

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