Welche Rolle spielt Siliziumnitrid im Halbleiter?
ImHalbleiterindustrie, Siliziumnitrid (Si₃N₄) spielt aentscheidende unterstützende und funktionale Rolle, obwohl es selbst kein Halbleiter ist. Es wird häufig als verwendetIsoliermaterial, dielektrische Schicht, Schutzbeschichtung und Barrierefolie aufgrund seinerausgezeichnete thermische Stabilität, chemische Inertheit und elektrische Isolationseigenschaften.
Eine der Hauptaufgaben von Siliziumnitrid ist die alsZwischenschichtdielektrikum (ILD) oderPassivierungsschicht imIntegrierte Schaltkreise (ICs) undMikroelektromechanische Systeme (MEMS). Es hilftverschiedene Komponenten elektrisch isolieren auf einem Chip, verhindert Stromlecks und schützt empfindliche Strukturen vor Umwelteinflüssen wie Feuchtigkeit, Ionen und Verunreinigungen. Siliziumnitrid wird auch als verwendetMaskierungsmaterial während des Ätzvorgangs aufgrund seinerhohe Beständigkeit gegen Plasma- und chemische Angriffe.
In3D-IC-Packaging und fortschrittliche Knotenfertigung, Siliziumnitrid wird verwendet fürAbstandshalterbildung, Spannungsabbauschichten und Kapselung aufgrund seinermechanische Festigkeit und Kompatibilität mit der Siliziumverarbeitung. Es dient auch alshochwertige -Diffusionsbarriere, wodurch eine unerwünschte Bewegung von Dotierstoffen oder Verunreinigungen innerhalb von Halbleiterbauelementen verhindert wird.
Eine weitere wichtige Anwendung ist inFlache Grabenisolierung (STI) undGate-Dielektrikum-Anwendungen, wo es istthermische und chemische Stabilität gewährleistet Zuverlässigkeit auch bei hohen Verarbeitungstemperaturen. Dünne Siliziumnitridfilme werden mit Techniken wie abgeschiedenchemische Gasphasenabscheidung (CVD) oderPlasma-verstärkte CVD (PECVD).
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